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Eletrônica Básica 1
Aula 02: Semicondutor  Extrínseco

1. Semicondutores  Extrínsecos
      O  semicondutor  visto anteriormente tem como principal característica o fato da concentração  (numero de portadores por cm3) de elétrons livres ser igual à  de lacunas e o seu número ser altamente depende da temperatura. Um semicondutor   extrínseco terá algumas de suas características elétricas  (como por exemplo a condutividade) alterada se forem adicionadas impurezas com  níveis de concentração adequados.

1.1. Semicondutor Tipo N
     O semicondutor tipo N é obtido adicionando-se quantidades controladas de impurezas pentavalente ao material puro (semicondutor   intrínseco). Por exemplo adicionando-se o fósforo (P) o qual     é pentavalente (5 elétrons na camada de valência), o  mesmo substituirá um átomo de semicondutor (Ge ou Si) no cristal. Quatro   dos seus elétrons serão compartilhados com quatro átomos vizinhos de Si enquanto o quinto elétron poderá se tornar   livre em temperaturas muito baixas sem que seja gerado lacuna, Figura 1.

                                           ( a )                                                           ( b )
Figura  1 - ( a ) Átomo de fósforo ligado a quatro átomos de Si  ( b )  quinto elétron livre, gera um íon preso à estrutura  cristalina


Desta  forma inicialmente só teremos elétrons livres como portadores  de carga, por isso o material  é chamado de N e a impureza de doadora.  Aumentando-se mais ainda a temperatura será atingida uma temperatura  para a qual serão gerados os pares elétron-lacuna. Os elétrons  livres são chamados de portadores  majoritários enquanto as lacunas  são chamadas de portadores minoritários.
Se ND é a concentração  de átomos da impureza por cm3, a   concentração de elétrons  livres no equilíbrio térmico (taxa de geração de  pares  elétron-lacuna = taxa de recombinação de pares),  nn0,  será dada por:  

isto é, o numero de eletrons livres é praticamente igual ao numero de atomos da impureza doadora.

e a concentração de lacunas será calculada aproximadamente  por:



onde ni é a concentração  intrinseca  de pares eletron-lacuna, valendo  2,5x1013 cm-3 para o Ge e 1,5x1010 cm-3   para o Si a temperatura ambiente de 27ºC.
Como ni depende da temperatura,  significará que a concentração de lacunas será dependente  da temperatura, porém como a concentração de elétrons  livres será praticamente igual ND então não dependerá da temperatura.

Não esqueça: os portadores minoritarios, lacunas neste caso, são gerados termicamente!!!!

1.2. Semicondutor  Tipo P
     O semicondutor tipo P  é obtido adicionando-se quantidades controladas de impurezas trivalente  ao material puro (semicondutor intrínseco). Um exemplo deste tipo de  impureza é o boro (B). Como o boro é trivalente os seus três  elétrons de valencia serão compartilhados com quatro átomos  de Si, porém uma das ligações não será completada. Em temperaturas extremamente baixas  o material é isolante. Quando a temperatura aumentar, será atingida uma temperatura (temperatura de ionização, ti) que provocará o deslocamento de  um elétron de valência de um  átomo vizinho  para ocupar aquela vaga fazendo aparecer uma  lacuna sem que eletron livre seja gerado, Figura 2a.

                                          ( a )                                                                                            ( b )
Figura  2- ( a ) Átomo de boro ligado a tres átomos de Si  ( b )  eletron de valencia de um atomo de Si vizinho ocupa a ligação não completada gerando um íon preso à estrutura  cristalina e uma lacuna.

 
2. A Junção PN
     A junção PN é o elemento básico na construção de quase todos os dispositivos da eletrônica tais como diodos, transistores, células solares, LEDs e circuitos eletrônicos.
 
Na Figura 3,  é considerado que a  dopagem das duas regiões é a mesma, isto é, ND=NA.Na Figura 3 tambem não estão representados os portadores minoritarios, lacunas no lado N e eletrons livres do lado P.

                        ( a )                                                                  ( b )
Figura 3 - ( a ) Barra de material P e  ( b ) barra de material N, para formação da junção

 
Difusão
A diferença de concentração de portadores entre dois pontos provoca um fluxo de cargas. Esse fenômeno é análogo à difusão de gases  e por isso é chamada de corrente de difusão.

 
2.1. Formando a Junção – A junção PN  em aberto
     Quando as duas regiões são colocadas em contato, devido à diferença de concentração aparece uma corrente: de elétrons livres  indo da região N para a P e de lacunas da região P para a N – corrente de difusão, Figura 4a. Apos um tempo haverá um equilibrio, isto é, a soma das correntes atraves da junção é nula e aparece a r.c.e (região de carga espacial) ou região de depleção, Figura 4b

                                    ( a )

                                    ( b )
Figura 4 - Formação da junção  ( a ) corrente de difusão inicial  ( b ) aparecimento da barreira de cargas espaciais


 
     A corrente de difusão, ID,  provoca o aparecimento da região de carga espacial (r.c.e) que  é livre de portadores de carga, existindo somente íons da impureza, negativo do lado P e positivo do lado N. Associado às cargas fixas dos dois lados da junção aparece  uma tensão chamada de barreira de potencial de aproximadamente 0,6V/0,7V  no caso do Si e 0,3V/0,4V do Ge. A barreira de potencial se opõe ao fluxo de portadores majoritarios, (difusão)  mas ajuda a corrente de portadores minoritários Is (Corrente reversa de saturação).
       No equilibrio, atraves da junção haverá um fluxo de portadores minoritarios (eletrons livres do lado P para o lado N e de lacunas do lado N para o lado P) e de portadores majoritarios (eletrons livres do lado N para o lado P e lacunas do lado P para o lado N), Figura 5.


Figura 5 - Junção PN no equilibrio

 
No equilíbrio a soma das correntes através da junção é nula:   Is + ID=0

2.2. A Junção PN em polarizada reversamente
     Com  polarização reversa  (pólo  positivo da bateria ligado no lado N e pólo   negativo do P) a região de carga espacial aumenta  (r.c.e)de largura, aumentando a barreira de potencial. A corrente de difusão (portadores majoritários) se anula, só existe a corrente reversa de saturação, Is, de portadores minoritários que depende da temperatura. Se a dopagem é a mesma dos dois lados  a largura  da r.c.e será  a mesma dos dois lados da junção.

Figura 6 - Junção PN polarizada reversamente
 
 

 
 
 
A corrente  externa  vale:  I=Is (nA para Si e uA para Ge) só depende da temperatura.

 
2.3. A Junção PN polarizada diretamente
     Com  polarização direta  (pólo  positivo da bateria ligado no lado P e pólo   negativo do N) a região de carga espacial  diminui , diminuindo a barreira de potencial se a tensão aplicada externa for maior que 0,6V (Si) e 0,3V(Ge). A   corrente de difusão (ID) de portadores majoritários  aumenta.

Figura 7 - Junção PN polarizada diretamente

 
A corrente  externa  vale:  I=ID – IS=ID e so depende da tensão externa.
 

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